
NEWS | 青源峰達(dá)太赫茲科技亮相2025BCEIA
2025-09-11 09:06:25
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作者:品牌運(yùn)營(yíng)中心
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9月10日至12日,由中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)主辦的第二十一屆北京分析測(cè)試學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)暨展覽會(huì)(BCEIA 2025)在北京盛大開(kāi)幕。作為分析測(cè)試領(lǐng)域的年度盛會(huì),本屆BCEIA適逢創(chuàng)辦四十周年,以“輝煌四十載,再譜新篇章”為主題,匯聚全球頂尖技術(shù)成果,搭建了學(xué)術(shù)交流與產(chǎn)業(yè)合作的高端平臺(tái),集中展示了國(guó)內(nèi)外分析測(cè)試技術(shù)的前沿進(jìn)展。
青源峰達(dá)集團(tuán)成員企業(yè)青源峰達(dá)太赫茲科技及盛瀚色譜構(gòu)建IC+和THz+兩大生態(tài)體系,以新技術(shù)+新產(chǎn)品+新應(yīng)用的“新”質(zhì)生產(chǎn)力亮相此次大會(huì)。公司深耕太赫茲光譜與成像技術(shù)領(lǐng)域多年,憑借深厚的技術(shù)積累與創(chuàng)新生態(tài)體系,持續(xù)推動(dòng)太赫茲技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)理論研究與實(shí)際場(chǎng)景的高效銜接,為多領(lǐng)域提供技術(shù)賦能。
依托強(qiáng)大的技術(shù)硬實(shí)力,青源峰達(dá)已構(gòu)建起覆蓋多核心場(chǎng)景的應(yīng)用解決方案矩陣。目前,公司產(chǎn)品線涵蓋太赫茲三維層析成像系統(tǒng)、時(shí)域光譜教研系統(tǒng)、自動(dòng)隨形無(wú)損檢測(cè)系統(tǒng)、便攜式時(shí)域光譜系統(tǒng)等,可為科研探索、工業(yè)質(zhì)量檢測(cè)、高等教育教學(xué)等領(lǐng)域提供精準(zhǔn)、高效的定制化技術(shù)方案,滿(mǎn)足不同場(chǎng)景下的技術(shù)需求,展現(xiàn)了從基礎(chǔ)研究到產(chǎn)業(yè)落地的全鏈條服務(wù)能力。
本次展會(huì)上,青源峰達(dá)太赫茲科技展示了“THz+”生態(tài)系統(tǒng)最新技術(shù)應(yīng)用成果 QT-NDT1000自動(dòng)隨形太赫茲無(wú)損檢測(cè)系統(tǒng),吸引了眾多專(zhuān)家學(xué)者、行業(yè)同仁和合作伙伴的高度關(guān)注,憑借四大核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)成為展會(huì)焦點(diǎn),為工業(yè)檢測(cè)領(lǐng)域帶來(lái)突破性解決方案:
高精度隨形掃描:搭載六軸機(jī)械臂實(shí)現(xiàn)靈活運(yùn)動(dòng),可精準(zhǔn)貼合復(fù)雜表面完成掃描成像,適配異形、曲面等不規(guī)則樣品檢測(cè)需求;
大景深成像能力:執(zhí)行末端可選配垂直入射太赫茲鏡頭或小角度離軸反射太赫茲鏡頭,突破傳統(tǒng)設(shè)備景深限制,確保不同高度、弧度的樣品表面均能清晰成像;
智能路徑規(guī)劃:支持在線示教與離線編程雙模式路徑規(guī)劃,可快速適配多樣化樣品結(jié)構(gòu),提升復(fù)雜表面檢測(cè)的自動(dòng)化與智能化水平;
多維度數(shù)據(jù)融合:采用逐點(diǎn)成像技術(shù),實(shí)現(xiàn)“圖譜合一”,可以同步獲取樣品的結(jié)構(gòu)圖像與太赫茲光譜信息,為用戶(hù)提供材質(zhì)、缺陷、厚度等多維度檢測(cè)數(shù)據(jù),有效解決工業(yè)場(chǎng)景中“檢測(cè)物體表面復(fù)雜、數(shù)據(jù)維度單一、檢測(cè)精度不足”等核心痛點(diǎn)。
青源峰達(dá)太赫茲科技將持續(xù)聚焦太赫茲技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化創(chuàng)新,通過(guò)“技術(shù)+應(yīng)用”的深度融合,為更多領(lǐng)域提供更具價(jià)值的解決方案,并熱忱歡迎業(yè)界同仁于9月11日至12日繼續(xù)蒞臨E1館E1230展位參觀交流,我們?cè)谶@里期待與各界專(zhuān)家共同探討分析測(cè)試領(lǐng)域的發(fā)展前景,攜手推進(jìn)科技創(chuàng)新與應(yīng)用實(shí)踐,共繪太赫茲技術(shù)產(chǎn)業(yè)化發(fā)展新藍(lán)圖。